Степпер ЭM-5434M предназначен для выполнения технологической операции литографии в производстве печатных плат (IC Substrate) для технологии сборки микросхем методом Flip Chip (BGA/CSP). Универсальность установки заключается в возможности работы с толстым фоторезистом (50 мкм) и управлением углом наклона стенок фоторезиста.

Степпер ЭМ-5534 выполняет совмещение и проекционный перенос в масштабе 1:1 изображения промежуточного шаблона на полупроводниковую пластину, покрытую слоем фоторезиста, с последующей мультипликацией изображения по всей пластине.

CCD степпер ЭМ-5634 предназначен для выполнения фотолитографии в производстве интегральных микросхем с большой площадью кристалла. Особенность установки ЭМ-5634 - большое рабочее поле проекционного объектива (50x50 и 35x100) мм при высоком разрешении - 1 мкм.