 |
ЭМ-5634 CCD-СТЕППЕР
CCD степпер ЭМ-5634 предназначен для выполнения фотолитографии в производстве интегральных микросхем с большой площадью кристалла.
Особенность установки ЭМ-5634 - большое рабочее поле проекционного объектива (50x50 и 35x100) мм при высоком разрешении - 1 мкм.
Артикул:
Поставщик:
ОАО "КБТЭМ-ОМО"Описание
Технические характеристики установки
Диаметр пластин, мм 100,150
Размер фотошаблона, мм 152x152 (6"х6")
Фотолитографическое разрешение (L/S), мкм 1
Глубина резкости, мкм 6
Рабочее поле, мм 50x50,100x35
Масштаб проекционного переноса 1:1
Диапазон автоматического изменения масштаба, ррm ±20
Дисторсия объектива, не более,мкм ±0.3
Длина волны, нм 365 (i-линия)
Мощность ртутной лампы, кВт 5
Мощности экспонирующего излучения, мВ/см2 140
Неравномерность освещения, % ±3
Погрешность отработки дозы экспозиции, % ±1.5
Погрешности совмещения слоев (3σ), мкм ±0.2
Потребляемая мощность, не более, кВт 6.5
Диаметр пластин, мм 100,150
Размер фотошаблона, мм 152x152 (6"х6")
Фотолитографическое разрешение (L/S), мкм 1
Глубина резкости, мкм 6
Рабочее поле, мм 50x50,100x35
Масштаб проекционного переноса 1:1
Диапазон автоматического изменения масштаба, ррm ±20
Дисторсия объектива, не более,мкм ±0.3
Длина волны, нм 365 (i-линия)
Мощность ртутной лампы, кВт 5
Мощности экспонирующего излучения, мВ/см2 140
Неравномерность освещения, % ±3
Погрешность отработки дозы экспозиции, % ±1.5
Погрешности совмещения слоев (3σ), мкм ±0.2
Потребляемая мощность, не более, кВт 6.5