Установка STE EB71 представляет собой полностью автоматизированную станцию электронно-лучевого напыления высококачественных тонкоплёночных композиций в сверхвысоком вакууме. Система разрабатывалась в идеологии “lab to fab” и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. В конструкцию также заложена возможность комплексирования и встраивания в состав роботизованных вакуумно-технологических кластерных систем. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе 3х3” или 6х2”, которые устанавливаются на держателе со сферическим профилем, учитывающим особенности процесса “lift-off”.

Новая универсальная система для осаждения многокомпонентных покрытий в вакууме методами магнетронного и резистивного испарения на групповую партию пластин Система позволяет проводить процессы напыления многокомпонентных покрытий (металлов, резистивных слоев, пленок ITO, диэлектрических и проводящих пленок в одном цикле и др.) при температуре на подложке до 700°С. Установка предназначена как для проведения активных исследований, так и для решения производственных задач. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе: 150мм – 5 шт., до 30 пластин 60х48 мм. Мишени диаметром 8’’ обеспечивают однородность ±2% на диаметре напыления 100 мм,а магнитное крепление позволяет легко их заменять. Оптимизированный высоковакуумный реактор из нержавеющей стали, состоит из неподвижного блока источников и подъемной верхней крышки. Обновленная эргономичная конструкция реактора комплектуется механизмом подъема для удобного проведения регламентных работ с блоком испарителей.

Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде Установка STE RTA100 ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Образец загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита, под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп. Конструкция установки позволяет обеспечить высокую однородность нагрева полупроводниковой пластины, имеющей неоднородное поглощение инфракрасного облучения по поверхности (например, со сформированной топологией).

Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме, управляемой газовой среде, в том числе восстановительной или окислительной атмосфере Специальная конструкция камеры, выполненной из алюминия, позволяет проводить процессы температурной обработки при экстремально высоких температурах (до 1300°С) в сочетании с длительными временем отжига (до 60 мин). Установка ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм.

Сетевая безударная дрель предназначена для сверления отверстий в материалах типа металла, дерева, пластика или подобных.

Сетевая безударная дрель предназначена для сверления отверстий в различных материалах.

Безударная односкоростная дрель ИНТЕРСКОЛ Д-16/1050Р2

Сетевая ударная дрель ДУ-13/580Т

Сетевая ударная дрель ДУ-13/780ЭР

Профессиональная сетевая двухскоростная ударная дрель ДУ-16/1000ЭР