Оптико-эмиссионный спектрометр OBLF MVS 1000
Универсальный, гибкий, бюджетный многоосновный анализатор любых металлов и сплавов OBLF MVS 1000.
Артикул:
Поставщик:
ООО «Лабораторные решения»Описание
Оптико-эмиссионный спектрометр OBLF MVS 1000 – универсальный, гибкий, экспресс-анализатор любых металлов и сплавов
Оптико-эмиссионный спектрометр OBLF MVS 1000 применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов. Бюджетное решение для спектральных и других лабораторий.
Преимущества:
Оптимальное соотношение цена- качество
Одновременное определение всех элементов в пробе любой матрицы
Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
OBLF MVS 1000
Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий.
Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе.
Обеспечивает точный и высокостабильный анализ всех элементов металлов и сплавов.
Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
Одновременное определение всех элементов в пробе
Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
Удовлетворяет всем аналитическим задачам
Новейшая, специально разработанная технология детекторов
Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях
Необслуживаемый цифровой генератор GDS III
Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
Снижает межэлементные влияния и влияние фона
Параметры возбуждения оптимизированы
Программируемая частота разряда 1 Гц – 1000 Гц
Искровой штатив
Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций
Оптимальный участок плазмы искры
Запатентованная импульсная продувка аргоном
Термостабилизация штатива
Простой доступ для обслуживания
Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную камеру.
Программное обеспечение
Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.
Обработка данных спектра
различные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)
«вычитание» фона для каждой линии
постоянная проверка профиля линии
использование нескольких линий сравнения
«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
Технологии компенсации фона
Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
Контроль профиля
Контроль темнового тока
Автоматическое профилирование с помощью ПО
Оптическая схема Пашена-Рунге 500 мм
Частота искрового разряда 1 – 1000 Гц
Чистота аргона 99,998 %
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице макс. 2,4 л
Расход аргона во время ожидания капиллярный
Габариты прибора, Д х Ш х В 1150 х 740 х 1340 мм
Вес нетто 300 кг
Оптико-эмиссионный спектрометр OBLF MVS 1000 применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов. Бюджетное решение для спектральных и других лабораторий.
Преимущества:
Оптимальное соотношение цена- качество
Одновременное определение всех элементов в пробе любой матрицы
Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
OBLF MVS 1000
Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий.
Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе.
Обеспечивает точный и высокостабильный анализ всех элементов металлов и сплавов.
Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
Одновременное определение всех элементов в пробе
Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
Удовлетворяет всем аналитическим задачам
Новейшая, специально разработанная технология детекторов
Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях
Необслуживаемый цифровой генератор GDS III
Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
Снижает межэлементные влияния и влияние фона
Параметры возбуждения оптимизированы
Программируемая частота разряда 1 Гц – 1000 Гц
Искровой штатив
Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций
Оптимальный участок плазмы искры
Запатентованная импульсная продувка аргоном
Термостабилизация штатива
Простой доступ для обслуживания
Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную камеру.
Программное обеспечение
Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.
Обработка данных спектра
различные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)
«вычитание» фона для каждой линии
постоянная проверка профиля линии
использование нескольких линий сравнения
«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
Технологии компенсации фона
Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
Контроль профиля
Контроль темнового тока
Автоматическое профилирование с помощью ПО
Оптическая схема Пашена-Рунге 500 мм
Частота искрового разряда 1 – 1000 Гц
Чистота аргона 99,998 %
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице макс. 2,4 л
Расход аргона во время ожидания капиллярный
Габариты прибора, Д х Ш х В 1150 х 740 х 1340 мм
Вес нетто 300 кг