.jpg) |
Установка нанесения негативного фоторезиста УНФ-2
Установка предназначена для нанесения негативного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.
Артикул:
Поставщик:
АО "Российская электроника"Описание
Технические данные:
Длина мм 850
Ширина мм 750
Высота мм 1400
Масса не более кг 200
Размер используемых подложек (мм) 60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин 0-3500
Дискретность задания скорости об/мин +/- 1
Точность поддержания скорости вращения %. +/- 1
Количество каналов подачи фоторезиста 1
Диапазон дозирования фоторезиста мл 0,5…10,0
Точность дозирования мл +/- 0,2
Установка комплектуется-набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек 1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А 1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3/ч 14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч 8
Длина мм 850
Ширина мм 750
Высота мм 1400
Масса не более кг 200
Размер используемых подложек (мм) 60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин 0-3500
Дискретность задания скорости об/мин +/- 1
Точность поддержания скорости вращения %. +/- 1
Количество каналов подачи фоторезиста 1
Диапазон дозирования фоторезиста мл 0,5…10,0
Точность дозирования мл +/- 0,2
Установка комплектуется-набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек 1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А 1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3/ч 14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч 8